Surf-Cal, PSL-Kugeln, vorgemischt für die Partikelgrößenkalibrierung des Wafer-Inspektionssystems
PSL-Kugeln, Polystyrollatex, Surf-Cal-Partikelgrößenstandards
SURF-CAL-PSL-Kugeln vereinfachen die Vorbereitung von Kalibrierungswafern in Ihrer Einrichtung, indem vorgemischte PSL-Kugeln in einer 50ml-Flasche bereitgestellt werden. Die Partikelgrößen entsprechen den von den Geräteherstellern geforderten Kalibrierpunktgrößen. Die Partikelkonzentrationen sind 1 x 10 e10-Partikel pro ml. Die Hersteller von SEMI haben die Verwendung bestimmter Partikelgrößen für die Kalibrierung von Scan-Oberflächen-Inspektionssystemen gefordert, die auch als Wafer-Inspektionswerkzeuge bezeichnet werden. In Zusammenarbeit mit Instrumentenherstellern erfüllen die SURF-CAL PSL-Kugeln die SEMI-Standards M52 (3) und M53-Richtlinien. Verfügbare Größen sind Knoten mit kritischer Größe, wie in der International Technology Roadmap für Halbleiter, ITRS (1), definiert.
Durch Ablegen von SURF-CAL, NIST-rückverfolgbaren PSL-Kugeln (Polystyrollatex) auf bloßen Silizium- und Musterwafern können Sie regelmäßige Größenkalibrierungsprüfungen an Ihren KLA-Tencor-, Hitachi-, ADE- und Topcon-SSIS-Werkzeugen durchführen und Ihren Wafer-Inspektionsscanner mit Scannern bei vergleichen andere Standorte. Sie können auch die Leistung Ihres SSIS in kritischen Phasen des Herstellungsprozesses bewerten.
Alle Produkte werden in entionisiertem, gefiltertem Wasser (DI-Wasser) in 50-ml-Flaschen mit einer Konzentration von 3 x1010-Partikeln pro ml suspendiert. Diese PSL-Kugeln wurden mit dem Differential Mobility Analyzer (DMA) oder anderen Größenausschlusstechniken dimensioniert.
Messmethodik:
Um die Rückverfolgbarkeit von NIST sicherzustellen, wurden die zertifizierten Durchmesser dieser Produkte durch Transmissionselektronen- oder optische Mikroskopie von NIST-Standardreferenzmaterialien übertragen (2). Die Unsicherheit wurde unter Verwendung des NIST Technical Note 1297, Ausgabe 1994 „Richtlinien zur Bewertung und zum Ausdruck der Unsicherheit der NIST-Messergebnisse“ (4) berechnet. Die aufgeführte Unsicherheit ist die erweiterte Unsicherheit mit einem Abdeckungsfaktor von zwei (K = 2). Der Spitzendurchmesser wurde unter Verwendung des Bereichs von ungefähr 2 s der Teilchengrößenverteilung berechnet. Die Größenverteilung wurde als Standardabweichung (SDS) des gesamten Peaks berechnet. Der Variationskoeffizient (CV) ist eine Standardabweichung, ausgedrückt als Prozentsatz des Spitzendurchmessers. Die FWHM-Verteilung (volle Breite bei halbem Maximum) wurde als die Verteilung bei der Hälfte der Peakhöhe berechnet, ausgedrückt als Prozentsatz des Peakdurchmessers.
1. "Die nationale Technologie-Roadmap für Halbleiter", Semiconductor Industry Association (1999)
2. SD Duke und EB Layendecker, "Interne Standardmethode zur Größenkalibrierung von sphärischen Submikronpartikeln durch Elektronenmikroskopie", Fine Particle Society (1988)
3. SEMI M52 - Leitfaden zur Spezifikation von Oberflächeninspektionssystemen für Siliziumwafer der 130-nm-Technologiegeneration.
4. Barry N. Taylor und Chris E. Kuyatt, „Richtlinien zur Bewertung und zum Ausdruck der Unsicherheit von NIST-Messergebnissen“. NIST Technical Note 1297, Ausgabe 1994, September 1994.
Partikelzusammensetzung | Polystyrol-Latex, PSL-Kugeln, Partikelgrößenstandards |
Konzentration | 1 x 10e1010 Partikel pro ml |
Teilchendichte | 1.05 g / cm³ |
Brechungsindex | 1.59 @ 589nm (25 ° C) |
Füllvolumen | 50 ml |
Inhalt | Polystyrol-Mikrokugeln in entionisiertem, filtriertem Wasser |
Verfallsdatum | ≤ 12 Monate |
PREISANFRAGE (Request)
ein Zitat
PSL-Kugeln, SURF-CAL-Partikelgrößenstandards | ||||
Produkt Teilenummer | Zertifizierter Spitzendurchmesser | Standardabweichung | Lebenslauf und FWHM | Partikel pro ml in 50 ml Volumenflasche |
AP-PD-047B | 47 nm | 4 nm | 7.5%, 17.4% | 1 x 10 e10 |
AP-PD-064B | 64 nm | 3 nm | 5.4%, 10.9% | 1 x 10 e10 |
AP-PD-083B | 83 nm | 4 nm | 4.2%. 9.6% | 1 x 10 e10 |
AP-PD-092B | 92 nm | 4 nm | 4.6%, 9.1% | 1 x 10 e10 |
AP-PD-100B | 100 nm | 3 nm | 2.6%, 5.2% | 1 x 10 e10 |
AP-PD-125B | 126 nm | 3 nm | 2.4%, 4.8% | 1 x 10 e10 |
AP-PD-155B | 155 nm | 3 nm | 1.6%, 3.7% | 1 x 10 e10 |
AP-PD-200B | 202 nm | 4 nm | 1.8%, 4.0% | 1 x 10 e10 |
AP-PD-204B | 204 nm | 4 nm | 1.8%, 3.7% | 1 x 10 e10 |
AP PD-215B | 220 nm | 3 nm | 1.6%, 3.3% | 1 x 10 e10 |
AP-PD-305B | 304 nm | 4 nm | 1.4%, 3.4% | 1 x 10 e10 |
AP-PD-365B | 360 nm | 10 nm | 1.3%, 2.8% | 1 x 10 e10 |
AP-PD-500B | 498 nm | 6 nm | 2.0%, 5.0% | 1 x 10 e10 |
AP-PD-800B | 809 nm | 6 nm | 0.8%, 1.8% | 1 x 10 e10 |
AP-PD-802B | 802 nm | 9 nm | 1.1%, 2.4% | 1 x 10 e10 |
AP-PD-1100B | 1.112 & mgr; m | 11 nm | 1.0%, 2.5% | 1 x 10 e10 |
AP-PD-1600 | 1.59 & mgr; m | 16 nm | 1.0%, 2.6% | 3 x 10 e8 |
AP-PD-2000 | 2.01 & mgr; m | 19 nm | 1.0%, 3.3% | 3 x 10 e8 |
AP-PD-3000 | 3.04 & mgr; m | 26 nm | 0.9%, 2.7% | 3 x 10 e8 |