Surf-Cal, PSL-Kugeln, vorgemischt für die Partikelgrößenkalibrierung des Wafer-Inspektionssystems

PSL-Kugeln, Polystyrollatex, Surf-Cal-Partikelgrößenstandards

SURF-CAL-PSL-Kugeln vereinfachen die Vorbereitung von Kalibrierungswafern in Ihrer Einrichtung, indem vorgemischte PSL-Kugeln in einer 50ml-Flasche bereitgestellt werden. Die Partikelgrößen entsprechen den von den Geräteherstellern geforderten Kalibrierpunktgrößen. Die Partikelkonzentrationen sind 1 x 10 e10-Partikel pro ml. Die Hersteller von SEMI haben die Verwendung bestimmter Partikelgrößen für die Kalibrierung von Scan-Oberflächen-Inspektionssystemen gefordert, die auch als Wafer-Inspektionswerkzeuge bezeichnet werden. In Zusammenarbeit mit Instrumentenherstellern erfüllen die SURF-CAL PSL-Kugeln die SEMI-Standards M52 (3) und M53-Richtlinien. Verfügbare Größen sind Knoten mit kritischer Größe, wie in der International Technology Roadmap für Halbleiter, ITRS (1), definiert.

Durch Ablegen von SURF-CAL, NIST-rückverfolgbaren PSL-Kugeln (Polystyrollatex) auf bloßen Silizium- und Musterwafern können Sie regelmäßige Größenkalibrierungsprüfungen an Ihren KLA-Tencor-, Hitachi-, ADE- und Topcon-SSIS-Werkzeugen durchführen und Ihren Wafer-Inspektionsscanner mit Scannern bei vergleichen andere Standorte. Sie können auch die Leistung Ihres SSIS in kritischen Phasen des Herstellungsprozesses bewerten.

Alle Produkte werden in entionisiertem, gefiltertem Wasser (DI-Wasser) in 50-ml-Flaschen mit einer Konzentration von 3 x1010-Partikeln pro ml suspendiert. Diese PSL-Kugeln wurden mit dem Differential Mobility Analyzer (DMA) oder anderen Größenausschlusstechniken dimensioniert.

Messmethodik:

Um die Rückverfolgbarkeit von NIST sicherzustellen, wurden die zertifizierten Durchmesser dieser Produkte durch Transmissionselektronen- oder optische Mikroskopie von NIST-Standardreferenzmaterialien übertragen (2). Die Unsicherheit wurde unter Verwendung des NIST Technical Note 1297, Ausgabe 1994 „Richtlinien zur Bewertung und zum Ausdruck der Unsicherheit der NIST-Messergebnisse“ (4) berechnet. Die aufgeführte Unsicherheit ist die erweiterte Unsicherheit mit einem Abdeckungsfaktor von zwei (K = 2). Der Spitzendurchmesser wurde unter Verwendung des Bereichs von ungefähr 2 s der Teilchengrößenverteilung berechnet. Die Größenverteilung wurde als Standardabweichung (SDS) des gesamten Peaks berechnet. Der Variationskoeffizient (CV) ist eine Standardabweichung, ausgedrückt als Prozentsatz des Spitzendurchmessers. Die FWHM-Verteilung (volle Breite bei halbem Maximum) wurde als die Verteilung bei der Hälfte der Peakhöhe berechnet, ausgedrückt als Prozentsatz des Peakdurchmessers.

1. "Die nationale Technologie-Roadmap für Halbleiter", Semiconductor Industry Association (1999)

2. SD Duke und EB Layendecker, "Interne Standardmethode zur Größenkalibrierung von sphärischen Submikronpartikeln durch Elektronenmikroskopie", Fine Particle Society (1988)

3. SEMI M52 - Leitfaden zur Spezifikation von Oberflächeninspektionssystemen für Siliziumwafer der 130-nm-Technologiegeneration.

4. Barry N. Taylor und Chris E. Kuyatt, „Richtlinien zur Bewertung und zum Ausdruck der Unsicherheit von NIST-Messergebnissen“. NIST Technical Note 1297, Ausgabe 1994, September 1994.

 

Partikelzusammensetzung Polystyrol-Latex, PSL-Kugeln, Partikelgrößenstandards
Konzentration 1 x 10e1010 Partikel pro ml
Teilchendichte 1.05 g / cm³
Brechungsindex 1.59 @ 589nm (25 ° C)
Füllvolumen 50 ml
Inhalt Polystyrol-Mikrokugeln in entionisiertem, filtriertem Wasser
Verfallsdatum ≤ 12 Monate

PREISANFRAGE (Request)
ein Zitat

 

PSL-Kugeln, SURF-CAL-Partikelgrößenstandards
Produkt Teilenummer Zertifizierter Spitzendurchmesser Standardabweichung Lebenslauf und FWHM Partikel pro ml in 50 ml Volumenflasche
AP-PD-047B   47 nm 4 nm 7.5%, 17.4% 1 x 10 e10
AP-PD-064B   64 nm 3 nm 5.4%, 10.9% 1 x 10 e10
AP-PD-083B   83 nm 4 nm 4.2%. 9.6% 1 x 10 e10
AP-PD-092B   92 nm 4 nm 4.6%, 9.1% 1 x 10 e10
AP-PD-100B   100 nm 3 nm 2.6%, 5.2% 1 x 10 e10
AP-PD-125B   126 nm 3 nm 2.4%, 4.8% 1 x 10 e10
AP-PD-155B   155 nm  3 nm 1.6%, 3.7% 1 x 10 e10
AP-PD-200B   202 nm 4 nm 1.8%, 4.0% 1 x 10 e10
AP-PD-204B   204 nm 4 nm 1.8%, 3.7% 1 x 10 e10
AP PD-215B  220 nm 3 nm 1.6%, 3.3% 1 x 10 e10
AP-PD-305B   304 nm 4 nm 1.4%, 3.4% 1 x 10 e10
AP-PD-365B   360 nm 10 nm 1.3%, 2.8% 1 x 10 e10
AP-PD-500B   498 nm 6 nm 2.0%, 5.0% 1 x 10 e10
AP-PD-800B   809 nm 6 nm 0.8%, 1.8% 1 x 10 e10
AP-PD-802B   802 nm 9 nm 1.1%, 2.4% 1 x 10 e10
AP-PD-1100B   1.112 & mgr; m 11 nm 1.0%, 2.5% 1 x 10 e10
AP-PD-1600   1.59 & mgr; m 16 nm 1.0%, 2.6% 3 x 10 e8
AP-PD-2000   2.01 & mgr; m 19 nm 1.0%, 3.3% 3 x 10 e8
AP-PD-3000   3.04 & mgr; m 26 nm 0.9%, 2.7% 3 x 10 e8
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